VGF（垂直梯度凝固法）系统
Kronos
Kronos系统采用垂直梯度凝固（VGF）法，用以解决基本工艺问题。该系统的高工作压力意味着，即使其组分具有高蒸气压的材料也可以结晶。该系统可在10-40巴的压力范围内用于不同化合物半导体的结晶。这种方法支持晶体的工业化生产，例如砷化镓（GaAs）的工业化生产可以通过在最大10巴压力的标准版设备实现，而磷化铟（InP）的生产可以在最大40巴压力的标准版设备中实现。同时，PVA研发的一整套移动系统可为充电和排空提供便捷。
产品数据概览
材料：砷化镓，磷化铟
| 坩埚直径： | 4–6" |
| 坩埚高度: | 高达450 mm |
| 炉室直径： | 800 mm |
| 炉室高度: | 975 mm |
| 工作压力: | 最大 40 bar |
尺寸规格
| 高度: | 2,900 mm |
| 宽度: | 1,650 mm |
| 深度: | 1,350 mm |
| 设备总重量: | 3,500 kg |
